皮米級電子晶片

擺脫光刻機束縛,打造奈米/皮米等級的積體電路晶片

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摩爾定律的救星,先進晶片製程技術來助攻

創辦人方可成博士突破現有半導體晶片製程,讓晶片的線寬可以從幾奈米到1奈米,甚至於小到0.1奈米也就是皮米級的晶片製程。0.1奈米的線寬大約就是1個原子的徑寬,相當於將電子線路刻畫在一顆原子的大小,這無疑是一項巨大的創新發明!

擺脫光刻機束縛,創新製程前所未見

我們使用的是電子束與X光照射,雖然同樣是微影技術,但我們並不使用光刻膠,所以沒有樹脂類材料具有分子巨大的問題,無法做微細雕刻。我們是透過電子束、X光還原感光層中的感光粒子,成為原子排列現象,就能輕易達到皮米級的電子線路

 

此外,本技術的電子線路製程技術一樣可以應用在電晶體上,做出線路更細微的IC圖案,且過程中無需使用昂貴的光刻機及蝕刻機就能實現奈米/皮米線路等級的晶片,大大降低生產成本,又可大量生產,更具有商業實施潛力。

恭賀 朗色林科技

榮獲第22屆金峰獎之

【傑出創業楷模】【傑出創新研發】

雙項大獎

朗色林科技方可成董事長獲獎不斷,繼金炬獎之後,方董事長近日榮獲第二十二屆金峰獎「傑出創業楷模」大獎,所研發的「皮米級電子晶片」與「合成冰種翡翠」獲得「傑出創新研發」大獎。方董事長的卓越經營理念,更被鼎力推薦擔任「榮譽指導委員」。

 

「金峰獎」是由中華民國傑出企業管理人協會(OEMA)所主辦的選拔活動,旨在推動並激勵企業之創新及改革、保持高度競爭力。OEMA聘多位工商學術界專業人士組成評審團,獲獎之企業,並透過媒體廣為報導,讓社會大眾均能認識各傑出企業,更盼以此殊榮激勵國內產業,凝聚企業領導人共同發展經濟的高度向心力,立足台灣,掌握世界經濟脈動。

 

方董事長突破現有半導體晶片的奈米製程,發明無需使用光刻機及蝕刻機的「皮米級電子晶片」製程。本技術不只適用於7奈米以下的先進製程,對於7奈米以上的成熟製程也適用。由於本技術是利用化學製程,同一個製程從28奈米到1奈米、甚至小於1奈米、皮米級都能製造。此外,設備部分都可以不再使用光刻機、蝕刻機,甚至於可拋棄光刻膠,將整個原本複雜的半導體晶片製程變成簡易製程,不僅製造成本能大幅下降,晶片的效率與良率又可大大提升

 

「合成冰種翡翠」是世界唯一可以量產的寶石級合成翡翠,方董事長成功挑戰以科技達到高檔天然冰種翡翠等級的合成技術,解決天然翡翠礦石已瀕臨絕礦之窘境!

 

方董事長關心人類福祉,不斷貢獻智慧以科技創新解答人類發展難題,所開發的這兩項技術都將對人類提供巨大貢獻,更是應對許多全球性挑戰的有力武器。

 

 

本公司創辦人-方可成博士突破現有半導體晶片的奈米製程,發明奈米/皮米等級晶片的製程,此發明的偉大之處在於無需光刻機及蝕刻機,透過方博士的製程方法就能讓晶片的線寬從幾奈米到1奈米,甚至小到0.1奈米也就是皮米級的晶片製程。

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皮米級電子晶片專利

合作計畫

由於世界各國都急迫性的需要晶片來提升國家競爭力,例如現在普遍的缺乏車用晶片,而車用晶片更決定了未來自動化汽車的優劣,相信我們的皮米級晶片會吸引您們的合作,歡迎有興趣的廠家投資我司研發經費與未來訂單,就像當年光刻機大廠ASML獲得來自台積電跟三星的經費挹注,之後也幫助了他們成了晶片製造業的領導廠商,相信在方可成博士的領導下,能組成世界一流的研發團隊,打造奈米/皮米等級的積體電路晶片,期待我們的誠意能換來一紙合理且公平的合約,有興趣的廠家請儘速與我們聯繫!

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